半導(dǎo)體制造離不開(kāi)高精度測(cè)量和控制 |
| 點(diǎn)擊次數(shù)：2421 發(fā)布時(shí)間：2021/5/31 |
| 提 供 商： |
上海境宣實(shí)業(yè)有限公司 |
資料大?。?/td>
| JPG |
| 圖片類(lèi)型： |
JPG |
下載次數(shù)： |
280 次 |
| 資料類(lèi)型： |
PNG |
瀏覽次數(shù)： |
2421 次 |
| 相關(guān)產(chǎn)品： |
|
|
| 詳細(xì)介紹： |
文件下載 圖片下載 |
半導(dǎo)體是現(xiàn)代技術(shù)的重要組成部分，從智能手機(jī)、電腦到洗衣機(jī)，幾乎每一種電子設(shè)備都有半導(dǎo)體。它們的導(dǎo)電能力介于導(dǎo)體和絕緣體之間，半導(dǎo)體有一個(gè)重要的性質(zhì)，如果在純凈的半導(dǎo)體物質(zhì)中適當(dāng)?shù)負(fù)饺胛⒘侩s質(zhì)其導(dǎo)電能力將會(huì)成百萬(wàn)倍地增加。例如，硅是最chang用的半導(dǎo)體材料，只要摻有0.0001%的硼，就可以將電導(dǎo)率提高一千倍。這種可操控性及其*的特性使半導(dǎo)體成為集成電路的關(guān)鍵組成部分，這在大多數(shù)電子系統(tǒng)中是如此。 著名的摩爾定律揭示集成電路上可以容納的晶體管數(shù)目在大約每2年便會(huì)增加一倍。雖然隨著國(guó)際半導(dǎo)體的技術(shù)發(fā)展路線圖的更新，這一趨勢(shì)現(xiàn)在開(kāi)始放緩，摩爾定律逐漸失效，但它仍然是半導(dǎo)體行業(yè)快速增長(zhǎng)和發(fā)展的強(qiáng)大驅(qū)動(dòng)力。 高精du的流量測(cè)量和控制是許多半導(dǎo)體制造技術(shù)的關(guān)鍵。科里奧利質(zhì)量流量計(jì)和控制器是小流量液體應(yīng)用的理想選擇，因具有多種優(yōu)點(diǎn)，使其成為半導(dǎo)體工藝的理想選擇。 在本文中，我們將簡(jiǎn)要討論半導(dǎo)體行業(yè)并講述科里奧利質(zhì)量流量控制技術(shù)的作用。 半導(dǎo)體制造涉及大量的加工技術(shù)。對(duì)于集成電路芯片，將一個(gè)圓柱形的晶錠切成薄片，進(jìn)行清洗和拋光，然后再進(jìn)行各種加法和減法處理步驟。其中一個(gè)關(guān)鍵步驟，是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的一種叫做化學(xué)氣相沉積(CVD)的技術(shù)。 化學(xué)氣相沉積法是傳統(tǒng)的制備薄膜的技術(shù)，指化學(xué)氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應(yīng)合成涂層或納米材料的方法，是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來(lái)沉積多種材料的技術(shù)。在集成電路的制造過(guò)程中，襯底通常為硅片。CVD能夠創(chuàng)造高阻隔膜，非常適用于具有復(fù)雜幾何形狀的集成電路。 這個(gè)過(guò)程可以簡(jiǎn)單地用幾個(gè)步驟來(lái)描述: -襯底(在這種情況下是硅片)被裝入真空室。 -使用質(zhì)量流量控制器將qian qu物精que地從儲(chǔ)罐流向汽化區(qū)域。 -通過(guò)增加熱量和/或降低壓力而汽化xian驅(qū)物。 -氣態(tài)的前驅(qū)物進(jìn)入真空室，并反應(yīng)形成聚合物沉積在基材表面。 -所有揮發(fā)性的副產(chǎn)物通過(guò)腔室橫向氣流排出。 
科里奧利流量控制器在CVD中的作用： CVD是高精du過(guò)程，制備薄膜過(guò)程主要包含三個(gè)重要的影響因素:襯底、前驅(qū)物和生長(zhǎng)條件。前驅(qū)物和生長(zhǎng)條件都離不開(kāi)精que的流量控制，ALICAT低流量、耐高壓、不受流體成分約束的科里奧利高精du控制技術(shù)是控制液體前驅(qū)物的理想選擇?？评飱W利的工作原理確保了無(wú)論流體性質(zhì)和成分如何，能精que測(cè)量流量，這意味著即使液體前驅(qū)物發(fā)生變化，也無(wú)需重新校準(zhǔn)。精確度不受溫度和壓力變化而產(chǎn)生影響。此外，減少必要的年度校準(zhǔn)意味著停機(jī)時(shí)間少和長(zhǎng)期擁有成本少。并且，科里奧利儀表不光可用于控制液體，還可以用于氣體。 上述優(yōu)點(diǎn)使科里奧利流量控制器也成為其他半導(dǎo)體制造工藝的有吸引力的選擇。例如，原子層沉積(ALD)同樣有需要精que控制液體前驅(qū)物的過(guò)程。 半導(dǎo)體制造的另一個(gè)關(guān)鍵過(guò)程是在將圓柱形晶錠采用機(jī)械刀片進(jìn)行切割，切成一片一片的圓盤(pán)狀，便成了晶圓。切割后需對(duì)其進(jìn)行清洗，一種新的晶圓清洗方法是使用超臨界CO2，它具有特殊的特性，可以有效清潔深溝槽和去除殘留物。超臨界CO2既不是液體也不是氣體，而科里奧利流量計(jì)非常適合這一工藝流程。 
Alicat CODA系列科里奧利儀表抗干擾性強(qiáng)，對(duì)周邊的振動(dòng)和干擾不敏感，這點(diǎn)更是為半導(dǎo)體先進(jìn)過(guò)程控制的高要求提供了有力保障。 有趣的事實(shí): CVD作為一種非常有效的材料表而改性方法，在很多領(lǐng)域得到應(yīng)用，它提高了材料的使用壽命，節(jié)省了大量的材料，為社會(huì)帶來(lái)了顯著的經(jīng)濟(jì)效益。CVD涂層不僅用于半導(dǎo)體行業(yè)，例如，它也被用于制造薯片包裝袋，將鋁沉積在聚丙烯層上。巧合的是，Alicat科里奧利流量?jī)x表對(duì)薯片的生產(chǎn)并不陌生，因?yàn)樗脖挥糜谡{(diào)味工藝生產(chǎn)過(guò)程中。  Alicat艾里卡特CODA科里奧利系列有多種型號(hào)可供選擇，并且可提供定制服務(wù)，請(qǐng)即刻與我們聯(lián)系推薦適合您的CVD、ALD、超臨界CO2或其他工藝的流量計(jì)量和控制解決方案！
|
| |
|
|
